前美国官员称中国已囤积约 343 台浸没式 DUV 光刻系统

据《南华早报》报道，前美国官员称，中国半导体工厂近年囤积了数百台、价值数十亿美元的浸没式光刻机，并敦促华盛顿及其盟友停止进一步出口。

2026 年 8 月成立的 Centre for Technology & Statecraft 于 9 月下旬发布报告，估计截至 2026 年初，中国晶圆厂已获得约 343 台浸没式深紫外光刻系统。该报告由前美国出口管制官员 Nicholas Brown 与前白宫及美国商务部技术政策顾问 Saif Khan 共同撰写。

报告估计，这 343 台设备中约有 270 台为阿斯麦 Twinscan NXT:1980i。作者称，这类设备虽然落后于极紫外光刻机，但可经过改造，用于制造 7 纳米级逻辑芯片，以及人工智能处理器所需的先进存储器，其中包括华为升腾系列相关产品所需的芯片。

报告还称，中国晶圆厂在 2024 年花费逾 130 亿美元购入约 90 台 NXT:1980i，2025 年又购入 89 台。

阿斯麦披露，按出货目的地计算，中国占其净系统销售额的比例在 2024 年为 41%，2025 年为 33%，到 2026 年第一季度降至 19%，第二季度进一步降至 14%。

监管方面，荷兰自 2023 年 9 月起对 NXT:2000i 及更先进的浸没式深紫外设备实施出口许可要求，这些型号此后实际上被禁止运往中国。一年后，许可要求扩展至 NXT:1980i，不过该型号仍可在个案审批下获准出货。