向中国公司泄露SK海力士商业机密 韩籍前员工二审获刑1年半

向中国公司泄露SK海力士商业机密 韩籍前员工二审获刑1年半

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News Editor
2026-08-09 01:47:05
据韩联社8月9日报道,曾在SK海力士中国法人任职的韩国籍前员工金某,因2022年为跳槽华为旗下海思等企业,违规打印拍摄大量CIS芯片机密并写入简历提交中方公司,二审被首尔高等法院判处有期徒刑1年6个月。法院维持一审判决,认定营业秘密泄露罪名成立;混合键合相关指控因技术当时未列入产业通商资源部尖端技术公告范围而获无罪。
据韩联社8月9日报道,首尔高等法院刑事第10-1部近日就一名前SK海力士中国法人员工的案件作出二审判决。韩国籍前员工金某因向中国公司泄露营业机密,被判处有期徒刑1年6个月,与一审判决一致。 金某于2022年为跳槽至华为旗下海思等中国企业,违反公司安全规定,从内部文档管理系统打印或拍摄大量与CIS(CMOS图像传感器)相关的尖端技术及营业机密资料。他将其中部分内容直接引用到简历中,提交给中方公司,从而完成泄露。 检方以金某违反产业技术保护法、不正当竞争防止法及业务上背任等罪名提起公诉。

一审认定罪名成立

一审法院认定,金某的营业秘密泄露罪名成立,判处其实刑1年6个月。但对于金某所涉Hybrid Bonding(混合键合)技术相关指控,法院认为该技术当时尚未被列入产业通商资源部尖端技术公告范围,因此相关指控无罪。

二审维持原判

首尔高等法院刑事第10-1部近日作出二审判决,完全维持原判。法院在判决中特别指出,金某大量泄露营业秘密,并以简历方式提交给中国公司,罪质严重。这些资料是受害企业多年投入研发所取得的成果,如果轻判此类案件,将削弱企业技术开发的动力,也容易让海外竞争方通过人才招聘的方式轻易窃取韩国技术。 不过,法院也考虑到金某已全部认罪,且大部分资料已被回收,因此未在此案中加重刑罚。
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