ChainCatcher 消息,Citrini 分析师 Jukan 在社交媒体发文称,中国在 DUV 光刻技术方面取得进展的消息并不特别令人意外,市场此前已对此形成一定预期。
他表示,The Information 的相关报道仅援引中国一所交通大学教授在 6 月一次内部会议上的发言,并未披露更多实质性信息。Jukan 认为,受此消息影响,ASML 等半导体设备股出现的抛售反应过度。
The Information 报道提到的量产计划
此前,据 The Information 援引知情人士消息,一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV(深紫外)光刻机制造设备,被视为中国半导体产业国产化替代取得关键进展。
消息人士称,该企业计划于 2026 年生产约 5 台国产 DUV 光刻机,并在 2027 年扩大至约 20 台。作为对比,荷兰光刻机企业 ASML 去年交付了 131 套浸没式 DUV 光刻系统。尽管双方仍有差距,但国产设备进入量产阶段,被市场视为中国芯片供应链自主化的重要突破。
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