4.1亿美元——这是荷兰ASML公司最新旗舰High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）的标价。彭博报道称，台积电已决定至2029年前不部署这款设备，转而依靠现有EUV技术（每台约1.5至2亿欧元）维持先进制程生产线。
台积电高层直言，新一代High-NA EUV设备“非常、非常昂贵”。不过，在AI芯片订单塞爆产能的当下，台积电并不缺钱。其算盘可能是：最新装置的技术优势还不足以覆盖溢价成本——更贵的机器未必是更好的投资。
High-NA EUV到底值多少钱？
EUV是目前制造7nm以下先进芯片的必备设备，全球唯一供应商是荷兰ASML。传统EUV机台的数值孔径（NA）为0.33，单价约1.5至2亿欧元；而High-NA EUV将NA提升至0.55，理论上可蚀刻更精细的��路，是下一代微影技术的核心。代价是售价超过3.5亿欧元（约4.1亿美元），几乎是传统EUV的两倍。
目前全球AI训练芯片的主流制程，包括NVIDIA H100系列使用的N4/N3节点，仍在现有EUV技术的能力范围内。这意味着，台积电的核心客户（NVIDIA、AMD、Apple）未来几年的订单并不需要High-NA EUV才能满足。
最大客户说不，市场如何解读？
ASML每年的EUV出货量有限，而台积电历来是消化最大份额的买家。这次“暂缓”信号影响的不仅是ASML的短期营收，更是整个High-NA EUV技术路径的市场信心。
彭博记者Neil Campling指出，现有采购High-NA EUV的客户——英特尔和三星——都面临各自挑战：英特尔处于制程重整阶段，多座工厂进度延迟；三星先进制程良率问题持续受到关注。台积电如果是唯一能高效利用High-NA EUV的晶圆厂，却偏偏选择不买，这对设备的采用时间表是一记重要的市场信号。
技术突破背后的商业现实
台积电决定至2029年前不采购High-NA EUV，并不意味着这项技术失败。更精确的解说是：现有EUV技术与制程最佳化的组合，在未来几年仍足以应对AI芯片的大多数需求。台积电在2nm（N2）以下世代的布局，目前仍规划以传统EUV配合多重曝光（Multiple Patterning）技术完成，而非强制换代到High-NA EUV。
这让ASML的High-NA EUV进入一个微妙的处境：技术上是世代突破，商业上却面临最关键客户的观望。等到台积电下一个技术节点（1.4nm、1nm世代）确实需要High-NA EUV的光学效能时，才是这款设备真正进入主流市场的起点。