中国自主 DUV 光刻机启动量产，长鑫存储或成首批应用客户

BlockBeats 消息，7 月 27 日，据 The Information 援引知情人士消息，一家获中国国有资本支持的企业已开始量产自主研发的 DUV（深紫外）光刻机制造设备。

报道说，该企业计划在 2026 年生产约 5 台 DUV 光刻机，并在 2027 年扩大至约 20 台。这被视为中国半导体产业推进国产化替代的一项进展。

与荷兰光刻机厂商 ASML 相比，国产设备当前产能仍有差距。报道提到，ASML 去年交付了 131 套浸没式 DUV 光刻系统。

消息人士称，这批国产 DUV 光刻机计划交付给中国主要芯片制造商，包括中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储。其中，长鑫存储作为中国 DRAM 产业代表企业，预计将成为国产先进半导体制造设备的重要应用方。

报道还称，如果国产 DUV 设备能够在长鑫存储等厂商产线中实现稳定运行，中国存储芯片产业对海外关键设备的依赖将进一步下降。