黄仁勋在 All-In 峰会上表示，中国到 2030 年就能做出自己的先进光刻系统。他还提到，一旦技术成熟，中国具备很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。相比之下，蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 近期称，中国若要做出国产 EUV 光刻机，可能还需要约 15 年。原提问与黄仁勋的回答都未明确限定为 EUV。

MarsBit刊载腾讯研究院作者朱兆一文章称，人工智能正在同时强化两种生产方式：一类依靠大模型和低成本试错快速验证方向，另一类继续在高精度制造与长期积累中建立壁垒。文章认为，工匠精神并未过时，但离开产业方向、技术周期和市场需求便无法单独成立；在需求不确定且试错成本低的领域，MVP更重要，而在半导体材料、高端设备、医疗器械等高风险或高精度环节，长期打磨仍不可替代。