黄仁勋称中国或于 2030 年前后做出先进光刻系统

黄仁勋在 All-In 峰会上表示，中国到 2030 年就能做出自己的先进光刻系统。

他还说，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

这一判断比蔡司更乐观。蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 近日称，中国要做出国产 EUV 光刻机，可能还需要约 15 年。蔡司是 ASML EUV 光学系统的核心供应商。

不过，主持人当时问的是「advanced lithography systems」，并没有明确限定为 EUV，黄仁勋在回答中也没有进一步说明是否特指 EUV。